Comparison of HfCl4, Hfl(4), TEMA-Hf, and TDMA-Hf as precursors in early growing stages of HfO2 films deposited by ALD: A DFT study (Evento)

Actividad: Revisión por parte de expertos de una publicación y trabajo editorial › Trabajo editorial

Descripción

PUBLICACIÓN DE ARTÍCULOS ORIGINALES EN REVISTAS CIENTÍFICAS CON ARBITRAJE ESTRICTO
Período15 jun. 2016 → …
Tipo de eventoOtros
Grado de reconocimientoInternacional

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