Departamento de Investigación en Física

Producción científica

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• 2009

  Effect of Flow Rate, Nitrogen Precursor and Diluent on Si2N2O Deposition by HYSYCVD

  Leal-Cruz, A. L., Pech-Canul, M. I., Lara-Curzio, E., Trejo, R. M. & Peascoe, R., 2009

  Producción científica: Informe/libro › Libro › revisión exhaustiva

• Effect of flow rate, nitrogen precursor and diluent on Si2N 2O deposition by HYSYCVD

  Leal-Cruz, A. L., Pech-Canul, M. I., Lara-Curzio, E., Trejo, R. M. & Peascoe, R., 2009

  Producción científica: Informe/libro › Libro › revisión exhaustiva

• Synthesis and characterization of Si/Si2N2O/Si 3N4 composites from solid-gas precursor system via CVD

  Flores-García, J. C., Leal-Cruz, A. L. & Pech-Canul, M. I., 2009

  Producción científica: Informe/libro › Libro › revisión exhaustiva
• 1998

  Effects of reaction temperature on the physical properties of chemically deposited Cds films

  Castillo, S. J., Sotelo-Lerma, M., Neyra, I. A., Ortuño, M. B., Ramírez-Bon, R. & Espinoza-Beltrán, F. J., 1998, (Materials Science Forum)

  Producción científica: Informe/libro › Libro › revisión exhaustiva

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