Characterization of aluminum oxide thin films obtained by chemical solution deposition and annealing for metal–insulator–metal dielectric capacitor applications

G. Suárez-Campos, D. Cabrera-German, A. O. Castelo-González, C. Avila-Avendano, J. L. Fuentes Ríos, M. A. Quevedo-López, R. Aceves, H. Hu, M. Sotelo-Lerma*

*Autor correspondiente de este trabajo

Resultado de la investigación: Contribución a una revistaArtículorevisión exhaustiva

Idioma originalInglés
Número de artículo145879
PublicaciónApplied Surface Science
Volumen513
DOI
EstadoPublicada - 30 may 2020

Huella Profundice en los temas de investigación de 'Characterization of aluminum oxide thin films obtained by chemical solution deposition and annealing for metal–insulator–metal dielectric capacitor applications'. En conjunto forman una huella única.

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