Characterization of aluminum oxide thin films obtained by chemical solution deposition and annealing for metal–insulator–metal dielectric capacitor applications

G. Suárez-Campos, D. Cabrera-German, A. O. Castelo-González, C. Avila-Avendano, J. L. Fuentes Ríos, M. A. Quevedo-López, R. Aceves, H. Hu, M. Sotelo-Lerma*

*Autor correspondiente de este trabajo

Resultado de la investigación: Contribución a una revistaArtículorevisión exhaustiva

1 Cita (Scopus)

Huella Profundice en los temas de investigación de 'Characterization of aluminum oxide thin films obtained by chemical solution deposition and annealing for metal–insulator–metal dielectric capacitor applications'. En conjunto forman una huella única.

Compuestos químicos

Ingeniería y ciencia de los materiales

Física y astronomía