Charge trapping dependence on the physical structure of ultra-thin ALD-HfSiON/TiN gate stacks
- Siddarth A. Krishnan*
- , M. A. Quevedo-Lopez
- , Rino Choi
- , Paul D. Kirsch
- , Chadwin Young
- , Rusty Harris
- , Jeff J. Peterson
- , Hong Jyh Li
- , Byoung Hun Lee
- , Jack C. Lee
*Autor correspondiente de este trabajo
Producción científica: Capítulo del libro/informe/acta de congreso › Contribución a la conferencia › revisión exhaustiva
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Citas
(Scopus)