Comparison of electrical and chemical characteristics of ultrathin HfON versus HfSiON dielectrics

G. Pant, A. Gnade, M. J. Kim, R. M. Wallace, B. E. Gnade, M. A. Quevedo-Lopez, P. D. Kirsch, S. Krishnan

Resultado de la investigación: Contribución a una revistaArtículorevisión exhaustiva

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Idioma originalInglés estadounidense
PublicaciónApplied Physics Letters
DOI
EstadoPublicada - 28 jul 2006
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Huella Profundice en los temas de investigación de 'Comparison of electrical and chemical characteristics of ultrathin HfON versus HfSiON dielectrics'. En conjunto forman una huella única.

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