Deposition method-induced stress effect on ultrathin titanium nitride etch characteristics

M. M. Hussain, M. A. Quevedo-Lopez, H. N. Alshareef, D. Larison, K. Mathur, B. E. Gnade

Resultado de la investigación: Contribución a una revistaArtículo

5 Citas (Scopus)
Idioma originalInglés estadounidense
Páginas (desde-hasta)361-363
Número de páginas3
PublicaciónElectrochemical and Solid-State Letters
DOI
EstadoPublicada - 6 nov 2006
Publicado de forma externa

Huella Profundice en los temas de investigación de 'Deposition method-induced stress effect on ultrathin titanium nitride etch characteristics'. En conjunto forman una huella única.

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