Effect of flow rate, nitrogen precursor and diluent on Si2N 2O deposition by HYSYCVD

Producción científica: Informe/libro › Libro › revisión exhaustiva

Idioma original	Indefinido/desconocido
Estado	Publicada - 2009

Otros archivos y enlaces

TY - BOOK

T1 - Effect of flow rate, nitrogen precursor and diluent on Si2N 2O deposition by HYSYCVD

AU - Leal-Cruz, A.L.

AU - Pech-Canul, M.I.

AU - Lara-Curzio, E.

AU - Trejo, R.M.

AU - Peascoe, R.

PY - 2009

Y1 - 2009

UR - https://www.scopus.com/pages/publications/70349155082

M3 - Libro

BT - Effect of flow rate, nitrogen precursor and diluent on Si2N 2O deposition by HYSYCVD

ER -