Huella
Profundice en los temas de investigación de 'Effect of flow rate, nitrogen precursor and diluent on Si<inf>2</inf>N <inf>2</inf>O deposition by HYSYCVD'. En conjunto forman una huella única.- Clasificar por
- Ponderación
- Alfabéticamente
Effect of flow rate, nitrogen precursor and diluent on Si<inf>2</inf>N <inf>2</inf>O deposition by HYSYCVD
A. L. Leal-Cruz, M. I. Pech-Canul, E. Lara-Curzio, R. M. Trejo, R. Peascoe
Producción científica: Capítulo del libro/informe/acta de congreso › Contribución a la conferencia