Electrical stress in CdS thin film transistors using HfO<inf>2</inf> gate dielectric

R. García, I. Mejia, J. E. Molinar-Solis, A. L. Salas-Villasenor, A. Morales, B. García, M. A. Quevedo-Lopez, M. Alemán

Resultado de la investigación: Contribución a una revistaArtículorevisión exhaustiva

7 Citas (Scopus)
Idioma originalInglés estadounidense
PublicaciónApplied Physics Letters
DOI
EstadoPublicada - 20 may 2013
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Huella

Profundice en los temas de investigación de 'Electrical stress in CdS thin film transistors using HfO<inf>2</inf> gate dielectric'. En conjunto forman una huella única.

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