Idioma original | Inglés estadounidense |
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Publicación | Applied Physics Letters |
DOI | |
Estado | Publicada - 20 may 2013 |
Publicado de forma externa | Sí |
Electrical stress in CdS thin film transistors using HfO<inf>2</inf> gate dielectric
R. García, I. Mejia, J. E. Molinar-Solis, A. L. Salas-Villasenor, A. Morales, B. García, M. A. Quevedo-Lopez, M. Alemán
Resultado de la investigación: Contribución a una revista › Artículo › revisión exhaustiva
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Citas
(Scopus)