Low frequency noise degradation in 45 nm high-k nMOSFETs due to hot carrier and constant voltage stress

M. Shahriar Rahman, Zeynep Çelik-Butler, Manuel M.A. Quevedo-Lopez, Ajit Shanware, Luigi Colombo

Resultado de la investigación: Contribución a una conferenciaArtículo

Huella Profundice en los temas de investigación de 'Low frequency noise degradation in 45 nm high-k nMOSFETs due to hot carrier and constant voltage stress'. En conjunto forman una huella única.

Física y astronomía