Metal gate work function engineering using AlN<inf>x</inf>interfacial layers

H. N. Alshareef, H. F. Luan, K. Choi, H. R. Harris, H. C. Wen, M. A. Quevedo-Lopez, P. Majhi, B. H. Lee

Resultado de la investigación: Contribución a una revistaArtículorevisión exhaustiva

57 Citas (Scopus)

Huella Profundice en los temas de investigación de 'Metal gate work function engineering using AlN<inf>x</inf>interfacial layers'. En conjunto forman una huella única.

Física y astronomía