PVP-SiO2 and PVP-TiO2 hybrid films for dielectric gate applications in CdS-based thin film transistors

M. S. de Urquijo-Ventura, M. G.Syamala Rao*, S. Meraz-Davila, J. A.Torres Ochoa, M. A. Quevedo-Lopez, R. Ramirez-Bon

*Autor correspondiente de este trabajo

Producción científica: Contribución a una revistaArtículorevisión exhaustiva

27 Citas (Scopus)

Huella

Profundice en los temas de investigación de 'PVP-SiO2 and PVP-TiO2 hybrid films for dielectric gate applications in CdS-based thin film transistors'. En conjunto forman una huella única.

Ingeniería y ciencia de los materiales

Química