Resistance and resistivities of pbs thin films using polyethylenimine by chemical bath deposition

J.O. Rivera-Nieblas; J. Alvarado-Rivera; M.C. Acosta-Enríquez; R. Ochoa-Landin; F.J. Espinoza-Beltrán; A. Apolinar-Iribe; M. Flores-Acosta; A. de León; S.J. Castillo

Resistance and resistivities of pbs thin films using polyethylenimine by chemical bath deposition

J.O. Rivera-Nieblas, J. Alvarado-Rivera, M.C. Acosta-Enríquez, R. Ochoa-Landin, F.J. Espinoza-Beltrán, A. Apolinar-Iribe, M. Flores-Acosta, A. de León, S.J. Castillo

Producción científica: Contribución a una revista › Artículo › revisión exhaustiva

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Idioma original	Indefinido/desconocido
Publicación	Chalcogenide Letters
Estado	Publicada - 2013

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publisher = "National Institute R and D of Materials Physics",

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TY - JOUR

T1 - Resistance and resistivities of pbs thin films using polyethylenimine by chemical bath deposition

AU - Rivera-Nieblas, J.O.

AU - Alvarado-Rivera, J.

AU - Acosta-Enríquez, M.C.

AU - Ochoa-Landin, R.

AU - Espinoza-Beltrán, F.J.

AU - Apolinar-Iribe, A.

AU - Flores-Acosta, M.

AU - de León, A.

AU - Castillo, S.J.

PY - 2013

Y1 - 2013

UR - http://www.scopus.com/inward/record.url?eid=2-s2.0-84884967604&partnerID=MN8TOARS

M3 - Artículo

SN - 1584-8663

JO - Chalcogenide Letters

JF - Chalcogenide Letters

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