Systematic gate stack optimization to maximize mobility with HfSiON EOT scaling

M. A. Quevedo-Lopez, P. D. Kirsch, S. Krishnan, H. N. Alshareef, J. Barnett, H. R. Harris, A. Neugroschel, F. S. Aguirre-Tostado, B. E. Gnade, M. J. Kim, R. M. Wallace, B. H. Lee

Resultado de la investigación: Contribución a una conferenciaArtículo

3 Citas (Scopus)
Idioma originalInglés estadounidense
Páginas113-116
Número de páginas4
EstadoPublicada - 1 ene 2006
Publicado de forma externa
EventoESSDERC 2006 - Proceedings of the 36th European Solid-State Device Research Conference -
Duración: 1 ene 2006 → …

Conferencia

ConferenciaESSDERC 2006 - Proceedings of the 36th European Solid-State Device Research Conference
Período1/01/06 → …

Huella Profundice en los temas de investigación de 'Systematic gate stack optimization to maximize mobility with HfSiON EOT scaling'. En conjunto forman una huella única.

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