Systematic gate stack optimization to maximize mobility with HfSiON EOT scaling

M. A. Quevedo-Lopez, P. D. Kirsch, S. Krishnan, H. N. Alshareef, J. Barnett, H. R. Harris, A. Neugroschel, F. S. Aguirre-Tostado, B. E. Gnade, M. J. Kim, R. M. Wallace, B. H. Lee

Producción científica: Capítulo del libro/informe/acta de congresoContribución a la conferenciarevisión exhaustiva

3 Citas (Scopus)

Huella

Profundice en los temas de investigación de 'Systematic gate stack optimization to maximize mobility with HfSiON EOT scaling'. En conjunto forman una huella única.

Keyphrases

Engineering

Material Science