Ultra-dry air plasma treatment for enhancing the dielectric properties of Al2O3-GPTMS-PMMA hybrid dielectric gate layers in a-IGZO TFT applications

J. Meza-Arroyo, M. G. Syamala Rao, K. Chandra Sekhar Reddy, A. Sánchez-Martinez, O. Rodríguez-López, M. Quevedo-López, R. Ramírez-Bon*

*Autor correspondiente de este trabajo

Producción científica: Contribución a una revista › Artículo › revisión exhaustiva

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Huella

Profundice en los temas de investigación de 'Ultra-dry air plasma treatment for enhancing the dielectric properties of Al2O3-GPTMS-PMMA hybrid dielectric gate layers in a-IGZO TFT applications'. En conjunto forman una huella única.

Ingeniería y ciencia de los materiales

Química